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多重曝光最新视觉报道_二次曝光删减内容(2024年12月全程跟踪)

内容来源：网络红人排行榜所属栏目：热点更新日期：2024-11-29

多重曝光

多重曝光摄影指南：从胶片到数字时代多重曝光，这个源于胶片时代的摄影技巧，至今仍被摄影师们广泛运用。通过在不同焦距下对同一场景进行多次曝光，可以创造出充满浪漫主义色彩的摄影作品。𐟎芥ŠŸ能与控制：优先选择在拍摄多重曝光时，选择“功能/控制”可以让你在拍摄过程中实时查看效果，逐步调整曝光，方便快捷。不过，连拍速度会因此显著降低。连拍模式：移动被摄体如果你需要拍摄连续的多重曝光，选择“连拍”模式。但请注意，此模式下无法进行菜单观看、图像确认、回放或取消最后一张图像的操作。拍摄的图像不会合并显示，只会保存多重曝光的结果。多重曝光控制：四种模式在“多重曝光控制”中，你可以选择四种不同的模式：加法模式每次拍摄的曝光量会累计添加。根据“曝光次数”设定负的曝光补偿。例如，两次曝光设置-1级，三次曝光设置-1.5级，四次曝光设置-2级。平均模式系统会自动设定负的曝光补偿，基于“曝光次数”。如果对相同场景进行多重曝光，系统会自动控制背景曝光，以达到标准曝光。明亮/黑暗模式此模式下，系统会比较基础图像和已添加的图像的亮度（或暗度），然后保留明亮（或黑暗）部分。根据图像的相对亮度（或暗度），可能会混合某些重叠色彩。曝光次数：灵活设置你可以在2次到9次之间设定“曝光次数”。按住SET键，指定要保存的图像。如果你想保存所有单次曝光图像和多重曝光图像，选择“所有图像”并按SET。若只想保存多重曝光图像，选择“仅限结果”并按SET。连续多重曝光：设置与拍摄设置“连续多重曝光”选项，然后按SET。设为“仅限1张”时，拍摄结束后将自动取消多重曝光拍摄。设为“连续”时，在步骤2中的设置设为“关闭”前持续进行多重曝光拍摄。第一次曝光：开启与控制选择“开：功能/控制”时，拍摄后会显示图像。选择“开：功能/控制”时，会合并显示目前为止拍摄的图像。要只显示当前的图像，反复按“INFO”按钮。当完成所设定曝光次数的拍摄时，多重曝光拍摄将结束。通过这些设置和操作，你可以轻松掌握多重曝光的精髓，创造出令人难忘的摄影作品。𐟓𘀀

N+2,技术，多重曝光？

摄影新手必学：多重曝光三大效果与相机设置嘿，大家好！今天来聊聊摄影中的神奇功能——多重曝光。话不多说，直接上干货！𐟔劊—————————— 𐟓𗠥䚩‡曝光是什么？简单来说，多重曝光就是把两张或更多的照片叠加成一张。这个功能可以在相机里设置，不过有些半画幅相机可能没有。你也可以用后期软件来制作。 𐟓𗠥䚩‡曝光的三种效果重叠：就是把一个人像和另一张图叠加在一起，人像部分清晰，背景部分模糊，虚实结合，效果超赞！分身：字面意思，同一张照片里有两个或更多的同一个人。其实手机的全景模式也能拍出这种效果。残影：和分身有点像，但效果更朦胧、更动态。可以营造一种朦胧美或者运动时的动态美。 —————————— 𐟓𗠧›𘦜𚦀Ž么设置多重曝光？这个其实很简单，以佳能80D为例。进入相机的菜单，找到「多重曝光」选项，然后「启用」。接下来你会看到不同的选项：加法：相机不会自动调整原始照片的曝光，直接叠加在一起，所以合成后的照片会变亮。平均：相机会自动调整原始照片的曝光，让合成后的照片亮度正常。明亮：保留原始照片中明亮的部分进行合成。黑暗：和明亮相反，保留黑暗部分。你还可以选择拍摄张数，比如2-9张，然后选择是只拍一次多重曝光还是连续拍。一切都设置好后，就可以开始拍摄了！好了，今天的分享就到这里。期待与你发生更多故事～我们下期见！𐟓𗀀

多重曝光摄影：新手也能轻松掌握的技巧很多人一看到那些充满超现实感的多重曝光作品，就觉得拍摄技法高深莫测，难以掌握。其实，多重曝光并没有想象中那么神秘，只要了解操作步骤，花点时间就能轻松上手。下面，我们就来详细讲解一下多重曝光的使用方法，让你也能拍出如梦如幻的作品。 𐟓𗠩斥…ˆ，确认你的相机是否支持多重曝光功能。这个功能通常可以在设置或创意图像按钮中找到。如果你的相机支持多重曝光，那么恭喜你，已经迈出了第一步！ 𐟔砥䚩‡曝光的开启有两种方式： 1️⃣ 【开：功能/控制】：这个选项可以让你在拍摄过程中实时查看效果，非常适合新手使用。 2️⃣ 【开：连拍】：这个选项无法实时查看效果，只能看到最终结果，虽然拍摄速度更快，但不太适合需要调整的拍摄。 𐟎蠥䚩‡曝光控制有四种模式： 𐟒ᠥŠ 法：多张照片进行曝光叠加，适合在弱光下使用。曝光补偿递减法则如下：一般2次曝光需要减1档（-1EV），3次曝光需要减1.5档（-1.5EV），4次曝光需要减2档（-2EV），以此类推。 𐟓Š 平均：相机将多张照片进行曝光平均后合成一张最终的照片，这是最常用的合成方式，推荐新手使用。 𐟌Ÿ 明亮：每张照片的高光区域保留，阴影区域进行合成。 ⚫️ 黑暗：每张照片的阴影区域保留，高光区域进行合成。通过这些简单的设置和操作，你就能轻松掌握多重曝光的拍摄技巧，拍出令人惊叹的作品！不妨试试看吧！

HW 910C 910B 麒麟9100 现阶段中国等待华为麒麟9100 拆机境内想要制作高端芯片---唯一唯一唯一途径多重曝光 N+2工艺！！未来5年内唯一途径！除非研发出5nm光刻机！（短时间也不太可能）这里已经告别套利阶段了，一定要珍惜筹码！等待华为麒麟9100 拆机显微镜晶体管确认后带来的轰动！！所以说，在没有新光刻机的前提下，这些芯片都是通过四重曝光得来的它主要是要用到这种眼膜板。本来以前只用一次，现在要用4次，包括光刻胶清洗，它都是成倍的知道吧，以前意思说，你生产5大米，7大米。拥有好的光刻机，你只需要用一次就可以一次清洗一块儿眼膜板就可以了。他现在这些耗材就是成倍的增加，就成倍量的增加。第二个呢，还有他的良品还没那么高，那良品没那么高，意思是说出10块儿，可能只有他们3块儿4块儿能用。因为只有这样，他才能得到5nm，7nm。相关标点: 全中国唯一 AF光刻胶：华懋科技全中国唯一高端掩模版：冠石科技高端清洗：国林科技全中国老大老二：中芯、华虹

在使用多重曝光技术生产7纳米芯片时，消耗增加最多的材料主要有以下几种： 1. 光刻胶：每一次曝光都需要涂抹光刻胶，经过多次曝光过程，光刻胶的使用量会大幅增加。光刻胶是一种对光敏感的化学材料，用于在芯片表面形成所需的电路图案，其质量和性能对芯片制造的精度和良率至关重要。高质量的光刻胶能够保证在多次曝光过程中图案的准确性和稳定性，但同时也增加了成本和材料消耗。 2. 掩膜版：多重曝光需要将原来一层光刻图形拆分到多个掩膜上，所以掩膜版的使用数量会增多。掩膜版是芯片制造过程中用于光刻的模板，上面刻有电路图案，光刻机通过照射掩膜版将图案转移到芯片表面的光刻胶上。制造掩膜版需要高精度的工艺和设备，成本较高，随着多重曝光技术的使用，掩膜版的消耗和成本也会相应增加。 3. 电子特气：在芯片制造过程中，电子特气用于光刻、刻蚀、掺杂、外延沉积等多种工艺环节。多重曝光技术增加了工艺的复杂性和步骤，在每一次的光刻、刻蚀等过程中都需要使用电子特气，因此电子特气的消耗量也会增加。而且不同的工艺步骤可能需要不同种类的电子特气，这也增加了对多种电子特气的需求。 4. 清洗材料：每次曝光之后都需要对芯片进行清洗，以去除残留的光刻胶、杂质等，确保下一次曝光的准确性和芯片的质量。多重曝光意味着更多次的清洗过程，所以清洗材料的消耗会显著增加。常见的清洗材料包括各种化学试剂、去离子水等。「生活手记」「基金超话」这篇文章是周末梳理分享的，之前是粉丝可见的。周二几个标的都有很好的买点。我买入的药剂已经有盈利10%了。上海ⷨ🜩晦𙖀

「佳能8K佳」如何将风景与人像融合在一起，拍摄出富有创意的作品呢？佳能EOS R5 Mark II上所搭载的多重曝光功能轻松将多张照片叠加，创造出梦幻、富有艺术感的图像效果。一键助你把握每一个细节，拍出前所未有的创意作品。快来体验不一样的摄影乐趣，释放你的无限想象力！「EOS趣味教室」佳能8K佳的微博视频

没有7nm芯片，没4nm芯片，mate70却能做到遥遥领先，你说气人不气人！天玑9200，联发科设计，台积电4nm工艺。骁龙8+gen1，高通设计，台积电4nm工艺。华为mate70很可能是麒麟9020，海思设计，等效于台积电4nm工艺。更准确的说，9020用的是28nm工艺，多重曝光降低良率后等效台积电7nm工艺。所以，芯片卡脖子这块，留给美国的时间真的不多了。

德国摄影师 Stephanie Jung 城市风光摄影作品（多重曝光）

我从不否定国家对于半导体自主化的努力，但是股票在投资同时也要认清目前半导体产业碰到状况的现实，才不会在操作迷失在市梦比当中，举光刻机例来说，DUV和EUV两个不同等级的技术，其实是光刻时用的光源波长不同，波长越短的光相当于越锋利的刀，EUV的波长是DUV的1/6还少，虽然我们现在可以利用DUV光刻机配合浸润式与多重曝光技术(利用水改变波长，反覆刻蚀)勉强做出接近7nm的制程，但是良率与生产时间决定了最终成本没有竞争力，更别提日后更高的制程，EUV紫外光是地球自然界不存在的光源，它是靠高速击打锡珠使得其产生不断的裂变产生的光源，根本的问题是要造出我们国产的EUV光刻机，所有的难点就一并解决了，有人比喻如果要造出7nm的芯片是翻过一群高山，那么要造出EUV光刻机的难度相当于翻过过一群珠峰，九月市场传出光刻机的技术出现重大突破，其实指的是DUV在浸润是与多重曝光后可以做出近乎7nm的芯片，但是这已经是DUV的极限了，正视这样的现实，在市场疯炒半导体的当下，知道和对手的差异就不难知道他们会出什么阴招，小散才能在每一笔操作的当下知道利润与风险的评估，做好风险控管有止损意识才能安稳追求利润。

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